박우진 학생의 Si HfO2 기판에 따른 증착층의 선택적 에칭 관련 논문 출간을 축하합니다.

Substrate-Dependent Etching of Plasma-Deposited Carbon Films on Si and HfO2 Tuned by C4F8/CH4 Gas Ratio

Woojin Park, Solee Park, Youngjun Yoon, Heesu Lee, Gwang-Ho Lee, Se Youn Moon*

ACS Appl. Electron. Mater. 2026, 8, 11, 4489–4500

https://doi.org/10.1021/acsaelm.5c02723